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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]热扩散腔室-CN201280002909.X无效
  • M.R.埃里克森;A.L.丁古斯;A.W.卡斯特三世;H.J.普尔;N.詹斯迪 - 普尔·文图拉公司
  • 2012-01-16 - 2013-08-21 - H01L21/22
  • 框架(104)支承着容纳腔室(102)，容纳腔室优选地被配置成用以封闭并约束处理腔室(106)。热源模块(108)被安置于容纳腔室与处理腔室之间，而热调节腔(110)被维持在热源模块与处理腔室之间。优选地，至少一个流体入口箱(112)与热调节腔成流体连通，其中流体入口箱(112)提供一种板阀(134)，板阀减缓了流体从热调节腔通过流体入口箱且到热调节腔外部的环境的流动。此外，优选的流体入口箱还包括一种流量调整结构(136)，流量调整结构与板阀相互作用以控制从热调节腔外部的环境经过板阀且进入到热调节腔内的流体流动。
  • 扩散
  • [发明专利]一种用于风蚀风洞实验的升降式楔形集沙仪-CN201811119083.0有效
  • 宋涛;孟晓军;边炳传 - 泰山学院
  • 2018-09-25 - 2020-03-17 - G01M9/04
  • 本发明属于实验设备技术领域，具体涉及一种用于风蚀风洞实验的升降式楔形集沙仪，包括水平设置的进气管、上扩散腔、下扩散腔、分离腔、收集腔、集沙盒和楔形外壳；所述进气管用于收集外界试验风洞中的风沙流；所述上扩散腔与进气管的末端连通，上扩散腔用于实现风沙流的初步扩散；所述下扩散腔与上扩散腔后端下侧连通，所述下扩散腔按照从上到下的方向呈扩散趋势，所述下扩散腔用于实现风沙流的二次扩散；所述分离腔与下扩散腔的下端连通，所述分离腔用于实现风沙流的三次扩散及风沙分离；所述收集腔与分离腔的下端连通，所述收集腔用于收集从分离腔分离的沙尘。
  • 一种用于风蚀风洞实验升降楔形集沙仪
  • [发明专利]薄膜材料沉积反应装置-CN202010353114.X在审
  • 李哲峰;张光海;聆领安辛 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2020-04-27 - 2020-07-17 - C23C16/455
  • 本发明公开一种薄膜材料沉积反应装置，包括：气体分布台，所述气体分布台包括气体传输腔和扩散腔，所扩散腔内设有多个间隔设置的扩散槽，每个所述扩散槽均与所述气体传输腔连通；一级气体扩散件，设于所述扩散槽内，所述一级气体扩散件用于将由所述气体传输腔进入所述扩散槽内的气体扩散；及二级气体扩散件，设于所述扩散槽的槽口，所述一级气体扩散件位于所述二级气体扩散件与所述气体传输腔和所述扩散腔的连通处之间。
  • 薄膜材料沉积反应装置
  • [实用新型]薄膜材料沉积反应装置-CN202020682326.8有效
  • 李哲峰;张光海;聆领安辛 - 深圳市原速光电科技有限公司
  • 2020-04-27 - 2020-12-25 - C23C16/455
  • 本实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置，包括：气体分布台，所述气体分布台包括气体传输腔和扩散腔，所扩散腔内设有多个间隔设置的扩散槽，每个所述扩散槽均与所述气体传输腔连通；一级气体扩散件，设于所述扩散槽内，所述一级气体扩散件用于将由所述气体传输腔进入所述扩散槽内的气体扩散；及二级气体扩散件，设于所述扩散槽的槽口，所述一级气体扩散件位于所述二级气体扩散件与所述气体传输腔和所述扩散腔的连通处之间。
  • 薄膜材料沉积反应装置
  • [实用新型]一种扩散炉-CN202123454580.6有效
  • 张景;张良;程尚之 - 安徽华晟新能源科技有限公司
  • 2021-12-31 - 2022-06-10 - H01L21/67
  • 本实用新型提供一种扩散炉。所述扩散炉包括：扩散反应腔；气路管，所述气路管包括：气路主体管、以及与所述气路主体管连接的气路进口段和气路出口段；所述气路主体管位于所述扩散反应腔的腔内，所述气路进口段和所述气路出口段位于所述扩散反应腔的腔外；所述气路主体管的管壁开设有若干个扩散气孔；承载件，沿所述气路主体管的延伸方向设置于所述扩散反应腔的腔内，适于承载待处理衬底。所述扩散炉加工方式简单，可以提高扩散反应腔内扩散气体的均匀性，充分去除扩散炉内残留的气体污染物，还可以减少扩散反应腔降温冷却的时间，加快工艺进度。
  • 一种扩散
  • [发明专利]一种可调节高度并具有自锁装置的加力扩散器-CN201611057685.9在审
  • 赵寰 - 赵寰
  • 2016-11-26 - 2017-02-15 - F01N13/20
  • 本发明公开了一种可调节高度并具有自锁装置的加力扩散器，包括扩散器壳体，所述扩散器壳体上设有扩散腔，所述扩散腔贯穿扩散器壳体，扩散腔呈漏斗状结构，其中，扩散腔的一端为进气口，且进气口的面积不大于出气口的面积，所述扩散腔的进气口安装有连接管，所述扩散腔位于进气口处的内壁上端连接有圆形盖板，所述扩散腔位于进气口处的内壁下端安装有磁铁，所述扩散器壳体远离连接接头的一端螺纹连接有扩散莲头，所述扩散莲头呈圆台状结构，所述扩散莲头的表面周向等距离设有斜孔。本发明通过伸缩机构和安装板的设计，可以通过安装板将扩散器安装在汽车的底部，再通过调节伸缩机构的长度来控制扩散器的高度。
  • 一种调节高度具有装置加力扩散器
  • [发明专利]用于调设在腔中的压力的方法和半导体系统-CN201911238508.4在审
  • J·克拉森 - 罗伯特·博世有限公司
  • 2019-12-06 - 2020-06-16 - B81C1/00
  • 本发明涉及一种用于调设借助于衬底和衬底罩构造的腔中的压力的方法，其中，腔是半导体系统、尤其晶片系统的部分，其中，半导体系统包括借助于衬底和衬底罩构造的另外的腔，其中，在腔中布置有微机电系统，其中，在另外的腔中布置有另外的微机电系统，其中，在衬底和/或衬底罩中布置有扩散区域，其中，方法至少包括以下扩散步骤：在扩散步骤中气体借助于扩散区域从环境扩散到腔中，其中，在扩散步骤期间，气体从环境到腔中的扩散性和/或扩散流量高于气体从环境到另外的腔中的另外的扩散性和/或另外的扩散流量，和/或，在扩散步骤期间，另外的腔至少基本上受保护以防止气体侵入到另外的腔中。
  • 用于设在中的压力方法半导体系统
  • [实用新型]一种面蒸镀源结构和设备-CN201922007321.5有效
  • 罗云鹏 - 福建华佳彩有限公司
  • 2019-11-20 - 2020-07-28 - C23C14/24
  • 本实用新型提供一种面蒸镀源结构和设备，包括坩埚、扩散腔和分散板，扩散腔设置在坩埚开口上，所述扩散腔底部开口坩埚顶部开口等大，扩散腔内设置有扩散板，扩散板上面设置有多个蒸汽扩散孔，扩散腔的开口由下往上依次增大，分散板盖在扩散腔的上开口处，分散板为平面板状结构，分散板上设置有多个喷嘴，所述喷嘴贯通分散板的上下面，所述喷嘴在分散板上均匀排列。上述技术方案通过在坩埚上的整个开口上设置扩散腔，可以减少扩散腔的侧壁面积，可以有效改善有机材料的利用率，降低蒸镀制程生产成本。可以缩小蒸镀设备整体的体积，降低设备采购成本。且通过扩散板的喷嘴，可以改善蒸镀成膜均匀性，可以提升蒸镀良率，降低生产成本。
  • 一种面蒸镀源结构设备
  • [发明专利]消泡电镀设备-CN202011145091.X在审
  • 邢中豪 - 华虹半导体（无锡）有限公司
  • 2020-10-23 - 2021-01-19 - C25D7/12
  • 本申请涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种消泡电镀设备，包括：电镀腔，电镀腔的腔口位置处环绕有金属阴极，待镀晶圆能够覆盖在电镀腔的腔口上；电镀液中的离子在选择性扩散膜处具有特定的扩散方向；按照扩散方向设置选择性扩散膜于电镀腔中，位于扩散方向前方的电镀腔部分为扩散前腔，位于扩散方向后方的电镀腔部分为扩散后腔；金属阳极，金属阳极设于扩散前腔中，在金属阳极和金属阴极之间能够形成电场线；电场线平衡膜，电场线平衡膜设于扩散后腔中，用于平衡电场线穿过待镀晶圆的表面；超声震荡装置，包括相连的超声震荡探头和超声波发生器，超声波发生器用于控制超声震荡探头产生震荡超声波；超声震荡探头设于电镀腔中。
  • 电镀设备
  • [发明专利]基板加工设备及用于选择性地插入扩散板的基板加工方法-CN201080030469.X有效
  • 诸成泰;朴灿用;金劲勋 - 株式会社EUGENE科技
  • 2010-07-02 - 2012-05-23 - H01L21/205
  • 根据本发明的一种实施方式，一种基板加工设备包括：具有开口的顶部的下腔室；覆盖下腔室的顶部的上腔室，其与下腔室一起形成用于基板加工的内部空间；布置在上腔室的下部用于向内部空间提供反应气体的喷头，在所述喷头与上腔室之间形成缓冲空间；形成在所述上腔室中用以向所述缓冲空间提供反应气体的供气口，以及布置在缓冲空间内用于扩散通过供气口提供的反应气体的扩散单元。扩散单元包括：互相隔离的多个扩散区，所述多个扩散区用来使反应气体能够在其中扩散；用于使供气口与扩散区连接的多个扩散孔；以及一个或者更多个扩散板，每个都具有与扩散区相应的形状，所述一个或者更多个扩散板选择性地插入扩散区
  • 加工设备用于选择性插入扩散方法
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